なかのにっき

最新版はこちら。 突っ込みは各日付の BBS エントリのほか、 メール (nakano@st.seikei.ac.jp) や フォーム からどうぞ。 なおスパム除けのため、BBS 機能には 緩い認証を入れて います。 検索エンジンから来た方は、エンジンの方のキャッシュを見るか、 下の簡易検索を試してみてください。


hns - 日記自動生成システム - Version 2.19.5

先月 2002年11月 来月
1 2
3 4 5 6 7 8 9
10 11 12 13 14 15 16
17 18 19 20 21 22 23
24 25 26 27 28 29 30
Namazu for hns による簡易全文検索
詳しくは 詳細指定/ヘルプを参照して下さい
検索式:

2002年11月14日(木) [n年日記]

#1 [labo] AFM probe

altech へメール。+misc/2320。

#2 まるしゅう

二回目 (前回の記録) 。今回は味噌ラーメンに豚ばらウインナーをトッピングして 950 円。 味噌のスープは強烈なパンチがあるわけではないのだけど、 最後まで飽きない。飲み干してしまった。 ウインナーは香草の効いてる本格的なやつ。 ただこいつにはスープが塩の方が合ったかな。

いや、大変満足した。 これから寒くなってくるとラーメンはよいねい。

#3 [dept] レポート採点

コタツで茶を啜りながら 第三実験の分 + 第一実験の再レポ分。

#4 [dept] 物理情報実験第三 第 4 クール 1 回目

16:00 くらいで測定終り、17:00 頃にだいたいみんな終り。 来週は欅際でお休みか。

#5 [debian] libstdc++2.10-glibc2.2 の 2.95.4-14 (sid)

typo のせいで apt やらなんやらが動かなくなっている。
cd /usr/lib
mv libstdc++libc6.2-2.so.3 libstdc++-libc6.2-2.so.3
ldconfig
でとりあえず解決。

#6 [dept] 同窓会用 OB メールアドレスリスト

石郷岡先生にお送りした。

#7 [JM] 今日の post

locale.7 にちょい手を入れて RO。
tcp.7 も一応終ったのだけど、どうしようかな。

#8 [labo] 続 octave で axisymmetric CT

今日原付で登校している途中に気づいたのだが、 このとき に「どっかの係数分だけおかし」かったのは、 最初の Line Projection を FFT するときに、 octave の fft() の結果にサンプリング周期をかけていなかった *1 からであった。
St = rSTEP * fft(Pt)
とすることによって良い感じになった。

二種類の I(r) に対して試してみた結果。 やはりステップ関数には弱いな。 TODO は というあたりかね。
*1: このへん 参照。

#9 [URL] 簡単な RDF Site Summary (RSS) の説明

なんか blog の文脈で RSS というのが頻出していたので google ってみた結果。
メタデータ/RDFの応用として利用されているXMLフォーマットの代表として、RSS (RDF Site Summary) があげられます。共通の書式でドキュメントの見出し、要約などのリストを提供することで、サイトの更新情報などを効率的に公開できます。スラッシュドットのような著名サイトでも採用されており、積極的に活用するとウェブ上の情報共有の新しい姿が見えてきそうです。

#10 [paper] JAP 92(9)

Texture formation in sputter-deposited (Nb0.7,Ti0.3)N thin films:

We studied the properties of (Nb0.7,Ti0.3)N films deposited by reactive magnetron sputtering in an atmosphere of argon and nitrogen at ambient substrate temperature, with a particular focus on the technological factors that determine film texture. The texture in the nitrides of transition metals determines many processes, including the wear resistance of tool coatings, diffusion in microelectronic devices, and the rate of chemical etching. Thus, since our goal is to use (Nb0.7,Ti0.3)N films in superconducting microelectronic devices, texture control is an essential element of our technology. We find that increasing the total gas pressure, while keeping the film chemical composition constant, results in a decrease in the ratio of the [200] and [111] x-ray diffraction (XRD) line intensities on θ-2θ Bragg-Brentano scans. Similar changes in XRD patterns are observed as the nitrogen injection increases for a constant sputtering pressure. In addition, XRD examination shows that some samples have in-plane texture developed due to self-shadowing during growth. Transmission electron microscopy reveals that all of the films consist of textured, elongated grains. Analyzing the experimental data, it is concluded that the thermalization of the sputtering yield determines the process of texture formation in the experiment with pressure variation, with an increase in adatom energy resulting in a change in texture from [111] to [100]. However, adatom energy is not the only determining factor--the nitrogen concentration in the sputtering gas also has a strong impact on the film texture. In particular, despite the fact that an increase in nitrogen injection results in an increase in adatom energy, the film texture is driven toward [111].
ふむ。

Failure mechanism of a multilayer (TiN/Al/TiN) diffusion barrier between copper and silicon:

The improvement of the diffusion barrier performance for Cu metallization, by inserting a thin Al layer between two TiN layers, has been clearly demonstrated and reported by us. The key idea behind our scheme is "stuffing" of grain boundaries of columnar TiN films by Al2O3. It has been also found that the barrier property is at its best when the Al thickness is 1 nm, but above this value, the barrier performance degrades drastically when the upper TiN film is not preannealed. In this study, why the barrier breaks down at above 1 nm of Al interlayer thickness is investigated. High-resolution transmission electron microscopy, scanning transmission electron microscopy, and energy dispersive spectroscopy analyses revealed that the fast diffusion of Cu in the presence of the free Al is the main reason for the failure of the present diffusion barrier scheme. These results are discussed on the basis of the differences between the movements of Al and Cu through TiN film, and the differences between the solid solubilities of Al in Cu and in Si. Our results show that both Al interlayer thickness and the oxygen content in TiN film should be properly controlled to take full advantage of the present multilayer diffusion barrier scheme.
コメント [全部読む/投稿する]

以上、1 日分です。
タイトル一覧
カテゴリ分類
book
dept
issp
labo
paper
snap
stock
vsj
Powered by hns-2.19.5, HyperNikkiSystem Project

中野武雄 (NAKANO, Takeo) <nakano@st.seikei.ac.jp> Since 1999-10-07
RSS feed, 更新時刻, LIRS エントリ, アクセス制御 (解説)

中野のホームページへ