薄膜・表面物性研究室 卒論・修論要旨 (2001-2008 年度)

薄膜・表面物性研究室で行われた卒論・修論の要旨集 (2001-2008年度) です。

2008 年度

修士論文

• 大木 早苗 「陽極化成によるp型Si多孔質化過程の光照射制御」

卒業研究

• 新井 完 「窒素雰囲気中熱処理によるナノクリスタルシリコンの作製」
• 栗又 尚子 「レーザ照射を伴う陽極化成におけるポーラスシリコンPLの空間分布」
• 田端 美咲 「MgO薄膜の絶縁破壊特性におよぼす放電ガス圧力の効果」
• 塚本 英貴 「PTFE・フラーレン（C₆₀）重ね蒸着薄膜の力学特性」
• 鈴木 亜弥子 「反応性スパッタによる窒化チタン膜堆積における水蒸気分圧の影響」
• 並木 大 「レーザー照射下の多孔質シリコン形成における電流密度の効果」
• 日留川 紀彦 「反応性スパッタリングによるTiN製膜における不純物混入と成膜速度」
• 村田 知栄子 「高電力パルススパッタ（HiPIMS）におけるI-V特性とパルスoff時電圧の効果」

2007 年度

修士論文

• 大澤 修一 「Si の陽極化成時におけるレーザ照射の効果」
• 柴田 一 「振動式マイクロスクラッチによる塗膜の粘弾性応答」
• 仲田 大輔 「MgO スパッタ薄膜の二次電子放出および絶縁破壊特性の酸素流量依存性 」
• 星 堅一郎 「TiN の反応性スパッタ製膜における真空環境の影響」

卒業研究

• 浅子 裕史 「Si 基板上に蒸着した銀薄膜に見られる島状組織構造」
• 柏木 友宏 「TiN および AlN 反応性スパッタ薄膜への酸素混入と製膜環境」
• 宮内 浩 「酸化物の反応性スパッタにおけるガス導入位置とモード遷移」
• 田中 順也 「スパッタ SiO_X 膜の真空中熱処理プロセスの改善」
• 中村 泰斗 「銀薄膜を形成したSiウェハーから形成される多孔質シリコン」
• 片山 匠 「振動式摩擦測定機を利用した液体膜の粘性率測定」
• 中谷 祐次 「スパッタ法で作製した MgO 薄膜の絶縁破壊特性評価」
• 梁瀬 淳 「マイクロスクラッチ試験機によるフラーレン蒸着膜の機械的特性評価」

2006 年度

修士論文

• 飯村 靖夫 「反応性スパッタリングのモード遷移に及ぼすターゲット金属の効果」

卒業研究

• 伊部 圭介 「2 段階陽極化成によるポーラスシリコンの PL 発光特性」
• 大木 早苗 「ポーラスシリコン形成における初期下地の水素終端処理効果」
• 佐藤 雅之 「超高真空装置による高純度TiN膜の作製」
• 柴田 雄介 「反応性スパッタにおけるモード遷移の圧力依存性」
• 菅原 涼介 「MgO 薄膜の絶縁破壊強度と二次電子放出率の酸素流量依存性」
• 田中 邦佳 「Si の反応性スパッタによるナノクリスタルシリコンの作製」
• 矢田 光司 「スパッタリングにおける成膜速度とターゲット・基板間の距離」

2005 年度

卒業研究

• 入江 早紀 「3 準位系からの発光強度比を利用したプラズマ中の原子空間密度の評価」
• 大泉 正行 「高分子下地に形成された SiO₂ 薄膜の付着性」
• 大澤 修一 「ポーラスシリコン形成時の化成温度と PL スペクトル」
• 小林 未奈 「定電力下の反応性スパッタリングによる SiOx の成膜速度」
• 柴田 一 「マイクロスクラッチ試験による塗膜の乾燥過程の評価」
• 仲田 大輔 「MgO スパッタ薄膜の絶縁破壊特性」
• 原田 嵩士 「Si の反応性スパッタ過程の圧力依存性」
• 星 堅一郎 「窒化物製膜のための超高真空スパッタ装置の作製」
• 安田 優 「高い電流密度により作製した多孔質 Si の表面形状と PL スペクトル」
• 吉田 祥平 「陽極化成したポーラスシリコンの表面構造の観察」

2004 年度

修士論文

• 佐藤 彰吾 「X線光電子分光法深さ分析から見た Si 基板上 In 島状薄膜構造の普遍的特性」
• 多久島 和弘 「ナノ結晶Si製膜のための Si の反応性スパッタリングにおけるモード遷移」
• 藤本 崇 「イオン衝撃による MgO スパッタ薄膜からの二次電子放出とその膜厚依存性」

卒業研究

• 飯村 靖夫 「電荷量一定の条件下で陽極化成したポーラスシリコン膜の特性比較」
• 上野 洋二 「原子間力顕微鏡によるAg薄膜の微小傷跡の観察」
• 兼田 知明 「マイクロスクラッチ試験機による slime の粘性評価」
• 菊地 祐介 「反応性スパッタリングによる酸化ケイ素薄膜の光学的性質」
• 高橋 悠介 「スパッタ粒子の輸送過程と圧力依存性」
• 田治見 香 「定電力下の反応性スパッタリングによる SiOx の成膜速度」
• 増田謙介 「Si 基板上 In 島状膜の形状定数のシミュレーション評価」
• 宮西 裕也 「多層ナノクリスタルシリコン・ドット薄膜の成膜プロセス開発及び薄膜特性」
• 村山 直弥 「MgO スパッタ薄膜の表面ラフネスの膜厚変化」
• 渡辺 達郎 「ポーラスシリコン中心部の陽極化成温度の違いによる PL 特性」

2003 年度

修士論文

• 田中 幸治 「発光強度の解析によるプラズマ中の Cu 原子密度の測定」

卒業研究

• 天野 晶夫 「球状圧子がもたらす弾性応力場の解析」
• 岩佐 忠明 「Cu スパッタプロセスにおける原子密度分布の基板温度依存性」
• 上野 輝明 「超微小硬度試験における薄膜の弾性変形のシミュレーション」
• 梅澤 知克 「ガラス基板上の PMMA 薄膜のトライボロジー特性」
• 大島 基嗣 「ポーラスシリコンの形成後の環境と発光スペクトルの経時変化」
• 大宮 育郎 「ステンレス基板上の CrN 薄膜のマイクロスクラッチ特性」
• 奥澤 浩史 「陽極化成にともなう Si 表面の亀裂とピンホールの生成」
• 倉山 泰史 「酸素添加雰囲気でスパッタした Si 薄膜の光学的性質」
• 小池 賢 「原子間力顕微鏡による MgO スパッタ薄膜の表面ラフネスの測定」
• 佐々木 貴久 「スパッタ粒子のスパッタ回り込み特性の圧力による変化」
• 戸梶 里美 「In 島状膜のスパッタエッチングによる見かけの表面被覆率変化」
• 中田 康弘 「ポーラスシリコン形成時の化成温度とフォトルミネッセンス」

2002 年度

修士論文

• 江成 雄一 「ポーラスシリコンの発光スペクトルの経時変化」

卒業研究

• 荒木 香映子 「Si の多孔質化と化成表面での電流密度分布」
• 岡田 小百紀 「マイクロスクラッチ試験による低誘電率（low-k）膜上 Cu 膜の付着性評価」
• 尾崎　誠 「基板温度制御下におけるスパッタ Cu 膜のラフネス成長」
• 工藤 寛子 「Computed Tomography による銅プラズマの発光分布の取得」
• 佐藤 彰吾 「Cu-In 合金薄膜の表面構造および深さ方向分析」
• 多久島 和弘 「ポーラスシリコンの化成条件と PL スペクトル」
• 中島 敏宏 「Cu スパッタ製膜における成膜速度のターゲット基板間距離の依存性」
• 疋田 英朗 「Cu スパッタプラズマの位置分解 OES 測定」
• 藤本 崇 「透過スペクトルを利用した MgO スパッタ膜の形状評価」
• 牧 俊郎 「圧子押込みによる薄膜の弾性挙動の FEM 解析」
• 山城 かおり 「スパッタリングプラズマにおける Cu 原子密度と発光強度」

2001 年度

修士論文

• 大川 賢治 「スパッタ薄膜の表面粗さのスケーリング観察」
• 小川 雅司 「マイクロスクラッチ針による銅膜の損傷過程」
• 野田 華代 「MgO 薄膜の２次電子放出特性」
• 前田 真 「傾斜屈折率多層膜フィルタの光学特性」

卒業研究

• 太田 晋 「スパタ Cu 膜の基板温度変化とスパタガス圧力依存性」
• 鈴木 勇太 「シリコンの陽極化成における電圧−電流特性」
• 高橋 明 「ポーラスシリコンの作製と発光」
• 竹田 純 「スクラッチ圧子がもたらす弾性応力場」
• 田中 幸治 「Cu スパッタプラズマの発光分析」
• 富永 孝司 「マイクロスクラッチ試験におけるCu膜の付着損傷」
• 中山 大輔 「実験用データベースの入力支援システムの構築」
• 丸地 里英 「スパッタリングにおける射出原子の軌道解析」

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