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薄膜・表面物性研究室では、固体薄膜を対象にして、 構造や物性の研究を行っています。 薄膜とは、厚さが 1μm 以下の、ごく薄い膜のことです。 多くの場合、物質を真空中で一旦気化させ、 その蒸気流を凝縮させて作ります（真空蒸着法）。 新しい物質を作ることもできます。面白い機能を持たせられます。 高価な物質でも安く製造することができます。 ...というような理由で、 現代の工業社会のさまざまな分野で利用されています。
薄膜は、“板状の材料をさらに薄くしたもの”ではありません。 私たちが普通に目にみえる程度の大きさの固体材料（バルク材料）からは 考えられないような振る舞いを、薄膜が持つことがあります。 逆に、バルク材料と同じような性質を持った 理想的な薄い膜を作ることがむしろ難しい課題のひとつです。 当研究室では、蒸気原子が凝縮して薄膜の形成される過程や、 できた薄膜の構造や性質（力学的・光学的・電気的 etc.）を調べています。 そして、それらが作製方法によってどのように変化するかを比較することによって、 より優れた機能を持った薄膜を作製したり、 それを応用する技術を考案していきたいと考えています。
化合物や合金薄膜の作製プロセスについて、興味を持って仕事をしています。 特に低圧プラズマのイオンを加速し、 材料物質にぶつけて気化させるスパッタリング法では、 エネルギーの高い原子やクラスターを作ることができるので、 真空蒸着法より優れた性質の薄膜を作ることができます。 しかし、薄膜の組成や構造は、 気体圧力やプラズマの条件によって大きく変わります。
最近は、六硼化ランタンという物質をスパッタ製膜する際の組成変化に対して、 実験と計算機シミュレーションを組み合わせた仕事をしています。 薄膜の表面の粗さ（ラフネス）の特性も、 薄膜の成長過程を反映しながら数学的な面白さも見られるので、 原子レベルの形状計測技術の開発とあわせて関心を持って研究を進めています。
成蹊学園吉祥寺キャンパスへの交通は 学園のアクセスマップ をご覧下さい。
薄膜・表面物性研究室は新 11 号館 1F の 102 室にあります。 理工学部エリアには入場制限がありますので、11 号館のラーニングコモンズエリアに来たところでお電話いただくか、11 号館東側の有人対応入り口から入っていただき、102 室までお越しください。 キャンパスマップ のページをご覧下さい。
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