著書・発表論文

著書

• 「真空科学ハンドブック」 (分担編集・執筆)
  コロナ社 2018 年 3 月
• 「ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎」 (分担執筆)
  2 真空およびプラズマ
  コロナ社 2013 年 5 月
• 「ロールtoロール技術の最新動向」 (分担執筆)
  2.4 スパッタプロセスにおけるシミュレーション技術
  シーエムシー出版 2011 年 3 月
• 「スパッタ実務［Ｑ＆Ａ集］」 (編集・分担執筆)
  技術情報協会 2009 年 1 月
• 「薄膜ハンドブック(第2版)」 (分担執筆)
  第I編 第1章 1.2.2「スパッタリング法による成膜過程: (2) 輸送過程, (3)付着・堆積過程」
  オーム社 2008 年 3 月
• 「ディスプレイ・光学部材における薄膜製造技術」 (分担執筆)
  第５章 第５節「スパッタリング研究における新展開」
  情報機構 2007 年 8 月
• 「生産現場・開発現場において役立つ 薄膜作製技術」 (分担執筆)
  第１章 第２節「表面」, 第３節「プラズマ」
  リアライズ・エイ・ティ 2006 年 11 月
• 「オプトエレクトロニクス分野を中心とした スパッタリング法による薄膜作製・制御技術」 (分担執筆)
  第１章 第２節「スパッタ製膜プロセスにおける粒子輸送過程とその影響」
  技術情報協会 2006 年 10 月

解説記事など

• 中野武雄
  「大電力パルススパッタ小特集に寄せて」 J. Vac. Soc. Jpn., 60 339-340 (2017) [巻頭言]
• 中野武雄
  「大電力パルススパッタリングを用いた金属膜の構造制御」 表面科学, 38 228-233 (2017) [査読つき研究紹介]
• 中野武雄
  「プラズマの基礎」
  "Fundamentals of plasma for vacuum engineers"
  J. Vac. Soc. Jpn., 57 308-312 (2014) [講座]
• 中野武雄
  「スパッタリング製膜プロセスの研究における最近の展開」
  "Recent progress in researches on sputter deposition process"
  真空, 第50巻 3-8 (2007) [査読付き解説記事]

査読付き原著論文

• Takeo Nakano, Kosuke Kimura, Yuto Iijima, Masato Takeuchi, Kei Oya, Masayoshi Nagao, Hisashi Ohsaki
  "Linear Relationship between Reactive Gas Flow Rate and Target Power at Mode Transitions in Reactive Sputtering"
  e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, 22(3) 199-206 (2024) [Open Access]
• Md. Suruz Mian, Takeo Nakano, Kunio Okimura
  "Improvement of the uniformity of structural and electrical properties of transparent conductive Al-doped ZnO thin films by inductively coupled plasma-assisted radio frequency magnetron sputtering"
  Thin Solid Films, 769 139752 (2023)
• Takeo Nakano, Hyuga Taniguchi, Nanako Dei, Makoto Ozawa, Md. Suruz Mian, Kei Oya, Katsuhisa Murakami, Masayoshi Nagao
  "Structure optimization of Spindt-type emitter fabricated by triode high power pulsed magnetron sputtering"
  Journal of Vacuum Science & Technology B, 40(6) 063102 (2022) [Accepted Manuscript]
• Md. Suruz Mian, Riko Yagi, Kei Oya, Takeo Nakano
  "Coloring and Bleaching Properties of 500—1000 nm–Thick Electrochromic Tungsten Oxide Films Deposited by Reactive Direct Current Magnetron Sputtering"
  physica status solidi (a), 219 2100646 (2022)
• 霜田 直宏, 小出 奈央, 本間 徹生, 中野 武雄, 張 晋, 脇田 英延, 里川 重夫
  "Local Structure Analysis of Active Sites in NiO/γ-Al₂O₃ Catalyst for Dimethyl Sulfide Decomposition: Sulfurization Behavior of Ni Species Using X-ray Absorption Spectroscopy Analysis" / ジメチルスルフィド分解用NiO/γ-Al₂O₃触媒の活性サイトの局所構造解析—X線吸収分光分析を用いたNi種の硫化挙動—
  Journal of the Japan Petroleum Institute 63 365-374 (2020) [Open Access]
• Katsuya Iuchi, Kei Oya, Kazuki Hosoya, Kazuki Sasaki, Yuko Sakurada, Takeo Nakano, Hisashi Hisatomi
  "Different morphologies of human embryonic kidney 293T cells in various types of culture dishes"
  Cytotechnology 72 131-140 (2020) [Manuscript available at ResearchGate]
• Takeo Nakano, Yudai Saitou, Kei Oya
  "Transient evolution of the target erosion profile during magnetron sputtering: dependence on gas pressure and magnetic configuration"
  Surf. Coat. Technol 326 436-442 (2017) [Accepted Manuscript]
• Takeo Nakano, Tomoki Narita, Kei Oya, Masayoshi Nagao, Hisashi Ohsaki
  "Fabrication of Mo microcones for volcano-structured double-gate Spindt-type emi tter cathodes using triode high power pulsed magnetron sputtering"
  J. Vac. Sci. Technol. B, 35 022204 (2017) [Accepted Manuscript]
• Takeo Nakano, Yudai Saitou, Mariko Ueda, Noriaki Itamura, Shigeru Baba
  "Growth of Target Race Track Profile during Magnetron Sputtering"
  J. Vac. Soc. Jpn., 58 261-264 (2015) [Open Access]
• Motoki Inoue, Takeo Nakano, Akihiro Yamasaki,
  "Fabrication of precious metals recovery materials using grape seed-waste"
  Sust. Mater. Technol., 3 14-16 (2015)
• Takeo Nakano, Ryo Yamazaki, Shigeru Baba
  "Effects of Atomic Weight, Gas Pressure, and Target-to-substrate Distance on Deposition Rates in the Sputter Deposition Process"
  J. Vac. Soc. Jpn., 57 152-154 (2014) [Open Access]
• Takeo Nakano, Shigeru Baba
  "Estimation of the pressure‐distance product for thermalization in sputtering for some selected metal atoms by Monte Carlo simulation"
  Jpn. J. Appl. Phys., 53 038002 (2014) [Accepted Manuscript]
• Takeo Nakano, Takaaki Sekiya, Shigeru Baba
  "Oxygen Incorporation in Reactive-Sputter-Deposited TiN films: Influence of the Metal to O₂ Gas Flux Ratio"
  J. Vac. Soc. Jpn., 57 16-22 (2014) [Open Access]
• Takeo Nakano, Takuya Umahashi, Shigeru Baba
  "Modification of film structure by plasma potential control using triode high power pulsed magnetron sputtering"
  Jpn. J. Appl. Phys., 53 028001 (2014) [Accepted Manuscript]
• Takeo Nakano, Norihiko Hirukawa, Shuhei Saeki, Shigeru Baba
  "Effect of the target voltage during off-pulse period in pulsed magnetron sputtering on afterglow plasma and deposited film structure"
  Vacuum, 87 109-113 (2013)
• Takeo Nakano, Chieko Murata and Shigeru Baba
  "Effect of the target bias voltage during off-pulse period on the impulse magnetron sputtering"
  Vacuum, 84 1368-1371 (2010)
• Takeo Nakano, Ken'ichiroh Hoshi and Shigeru Baba
  "Effect of background gas environment on oxygen incorporation in TiN films deposited using UHV reactive magnetron sputtering "
  Vacuum, 83 467-469 (2008)
• 中野武雄, 星堅一郎, 馬場　茂
  「窒化チタンの反応性スパッタ製膜における真空環境の影響」
  "Effect of background vacuum environment on the reactive sputtering deposition of titanium nitrides"
  真空, 第50巻 291-293 (2007)
• Takeo Nakano, Takashi Fujimoto, Daisuke Nakada and Shigeru Baba
  "Dielectric Breakdown Phenomena during Secondary Electron Emission Measurement of Sputter-Deposited MgO Films"
  Jpn. J. Appl. Phys., 45(10A) 7875-7878 (2006)
• Takeo Nakano and Shigeru Baba
  "Gas pressure effects on thickness uniformity and circumvented deposition during sputter deposition process"
  Vacuum, 80(7) 647-649 (2006)
• 飯村靖夫, 多久島和弘, 中野武雄, 馬場　茂
  「電力一定放電下の反応性スパッタリングによる酸化シリコンの組成制御」
  "Stoichiometry control of silicon oxide films by the reactive sputter deposition with constant power operation"
  真空, 第49巻 171-173 (2006)
• Shigeru Baba, Yoshihiro Yamaguchi, Masashi Ogawa and Takeo Nakano
  "Two critical events observed on Cu films on glass substrate in the microscratch test" in "Adhesion Aspects of Thin Films, Vol. 2" ed. K. L. Mittal, pp. 203-213, VSP (Netherland) 2005
• Takeo Nakano, Hiroshi Mizuhashi and Shigeru Baba
  "Transition of Roughness Evolution in Cu-In Alloy Films by the Formation of Intermetallic Compounds"
  Jpn. J. Appl. Phys., 44(4A) 1932-1938 (2005)
• 佐藤彰吾, 中野武雄, 馬場　茂
  「X 線光電子分光法の深さ方向分析から分かる Si 基板上 In 島状膜の構造およびその膜厚変化」
  "Structure and its evolution on In island films on Si substrates revealed in their depth-profiles of X-ray Photoelectron Spectroscopy"
  真空, 第48巻 121-123 (2005)
• Takeo Nakano, Kouji Tanaka and Shigeru Baba
  "Computed Tomography imaging of optical emission from copper sputter deposition plasma: evaluation of the atomic density using the self-absorption effect"
  Vacuum, 74(3-4) 387-390 (2004)
• Takeo Nakano, Shogo Sato and Shigeru Baba
  "Structural analysis of Cu-In alloy films with XPS depth profiling by ion etching"
  Vacuum, 74(3-4) 591-594 (2004)
• Takeo Nakano, Takashi Fujimoto and Shigeru Baba
  "Measurement of surface roughness and ion-induced secondary electron emission coefficient of MgO films prepared by high pressure sputter deposition"
  Vacuum, 74(3-4) 595-599 (2004)
• 田中幸治, 中野武雄, 馬場　茂
  「スパッタリングプラズマ中の銅原子密度の位置分解発光分光による測定およびそのターゲット−基板間距離による変化」
  "Evaluation of the sputtered copper atomic density and its dependence on Target-Substrate distance by spatially resolved optical emission spectroscopy"
  真空, 第47巻 277-280 (2004)
• 中野武雄
  「中高圧力下 (2〜20 Pa) のスパッタリングにおける粒子輸送過程」
  "Particle transport process during sputter deposition process in the pressure range of 2-20 Pa"
  真空, 第45巻 699-705 (2002)
• 大川賢治, 中野武雄, 馬場　茂
  「スパッタ銅膜の表面ラフネス成長の原子間顕微鏡による観察」
  "Evolution of the scaling of the surface roughness observed on sputtered copper films with atomic force microscope"
  真空, 第45巻 134-137 (2002)
• Takeo Nakano, Noriyuki Ohnuki and Shigeru Baba
  "Pressure dependence of optical emission from DC magnetron sputtering plasma observed with spatial resolution"
  Vacuum, 59 581-585 (2000)
• Shigeru Baba, Isao Mori and Takeo Nakano
  "Precise determination of the refractive index of sputtered MgO thin films in the visible light range"
  Vacuum, 59 531-537 (2000)
• T. Nakano and S. Baba
  "A hybrid simulation of high pressure sputtering, combining the Monte Carlo method and the diffusive approach"
  Thin Solid Films, 343-344 24-26 (1999)
• Shigeru Baba, Tsukasa Midorikawa and Takeo Nakano
  "Unambiguous detection of the adhesive failure of metal films in the microscratch test by waveform analysis of the friction signal"
  Appl. Surf. Sci., 144-145 344-349 (1999)
• Takeo Nakano and Shigeru Baba
  "Simulation of particle transfer in high pressure sputtering"
  Vacuum, 51 485-489 (1998)
• Takeo Nakano, Takehiro Suzuki, Noriyuki Ohnuki and Shigeru Baba
  "Alloying and electrical properties of evaporated Cu-In bilayer thin films"
  Thin Solid Films, 334 192-195 (1998)
• Ken Sakai, Masao Takeshita, Yuko Tanaka, Takuma Ue, Masayuki Yanagisawa, Masaya Kosaka, Taro Tsubomura, Masamichi Ato, Takeo Nakano
  "A new one-dimensional platinum system consisting of carboxylate-bridged cis-diammineplatinum dimers"
  J. Am. Chem. Soc., 120 11353-11363 (1998)
• Yoshio Suzaki, Akira Saitoh, Takeo Nakano and Shigeru Baba
  "LEED observation of 4x1-In superstructure prepared on Si(111)-quasi-5x5-Cu surface"
  Appl. Surf. Sci., 113/114 445-447 (1997)
• Takeo Nakano, Isao Mori and Shigeru Baba
  "The effect of `warm' gas scattering on the deceleration of energetic atoms: Monte-Carlo study of the sputter-deposition of compounds"
  Appl. Surf. Sci., 113/114 642-646 (1997)
• 中野武雄, 馬場　茂
  「銅−インジウム重ね蒸着膜における合金化進行過程の X 線光電子分光法による観察」
  "XPS measurement of the alloying process in sequentially evaporated Cu-In thin films"
  真空, 第38巻 657-659 (1995)
• A. Kinbara, T. Nakano, A. Kobayashi, S. Baba and T. Kajiwara
  "LaB_x thin films prepared by magnetron sputtering"
  Appl. Surf. Sci., 70/71 742-745 (1993)
• 中野武雄, 馬場　茂, 佐野　耕, 小林昭彦, 金原　粲
  「スパッタ法によって作製した硼化ランタン薄膜の組成と物性」
  "Composition and physical properties of sputter-deposited LaB_x thin films"
  真空, 第35巻 245-247 (1992)
  
• T. Nakano, S. Baba, A. Kobayashi, A. Kinbara, T. Kajiwara, K. Watanabe
  "Structure modification of radio frequency sputtered LaB₆ thin films by internal stress"
  J. Vac. Sci. Technol. A, 9 547-549 (1991)
• T. Kajiwara, T. Urakabe, K. Sano, K.Fukuyama, K.Watanabe, S. Baba, T. Nakano and A. Kinbara
  "Mechanical and electrical properties of rf sputtered LaB₆ thin films on glass substrates"
  Vacuum, 41 1224-1228 (1990)

査読なし論文

• 谷口日向, 大家　渓, 中野武雄, 長尾昌善, 大崎　壽, 村上勝久
  「大電力パルススパッタ法によるスピント型陰極作製における放電ガス(アルゴン、クリプトン)の効果」
  電子情報通信学会技術研究報告 118(263), pp. 5-8 (2018)
• 柴田　一, 中野武雄, 馬場　茂
  「動的摩擦試験法による塗膜の粘性測定および乾燥過程の評価」
  成蹊大学理工学研究報告, 51 pp. 1-5 (2014)
• 江上　傑, 村瀬史弥, 田端美咲, 小曾根良介, 中野武雄, 馬場　茂
  「MgOスパッタ薄膜の構造特性 : 絶縁破壊およびスクラッチ損傷」
  成蹊大学理工学研究報告, 50 pp. 27-32 (2013)
• 大木早苗, 大澤修一, 中野武雄, 馬場　茂
  「レーザー光照射による p 型 Si の局所的陽極酸化とナノ構造制御」
  成蹊大学理工学研究報告, 50 pp.9-16 (2013)
• Kyohei Maki, Tomohiro Fukuda, Hideyuki Momose, Takeo Nakano and Shigeru Baba "Structural and optical properties of reactive-sputtered films of V₂O₅: Measurement of optical bandgap and roughness correction"
  成蹊大学理工学研究報告, 49 pp.41-44 (2012)
• 吉田知也, 長尾昌善, 神田信子, 西　孝, 中野武雄
  「スパッタプロセスを用いたスピント型電子源の作製」
  電子情報通信学会技術研究報告, 112(303), pp. 19-23 (2012)
• Shigeru Baba, Makoto Iozaki, Shogo Sato, Takeo Nakano
  Structural properties of Island Films of Indium on Si(111) and the Sputter-Etching Profile
  成蹊大学理工学研究報告, 48(1) pp.1-8 (2011)
• 多久島 和弘, 江成 雄一, 中野 武雄, 馬場　茂
  「多孔質シリコンのPLスペクトルの経時変化と表面修飾の効果」
  成蹊大学工学研究報告, 41(2) pp.37-41 (2004)
• 中野武雄, 馬場　茂
  「Cu スパッタ製膜における成膜速度のターゲット−基板間距離依存性」
  成蹊大学工学研究報告, 40(2) pp.79-81 (2003)
• 中野武雄, 前田　真, 馬場　茂
  「任意の屈折率を持つ層からなる光学多層膜フィルタの最適設計」
  成蹊大学工学研究報告, 39(2) pp.43-49 (2002)
• 土屋賀弘, 内山大輔, 中野武雄, 馬場　茂
  「透明薄膜の屈折率の新しい決定法及びその MgO 膜への適用」
  成蹊大学工学研究報告, 33(1) pp.7-10 (1996)
• 水橋比呂志, 田中　智, 中野武雄, 馬場　茂
  「角度分解光散乱による表面ラフネスの測定」
  成蹊大学工学研究報告, 33(1) pp.11-16 (1996)

特許

• 日本国特許 第6093968号 特願2012-187133 2017年2月24日登録
  「電子放出素子用エミッタの作製方法」
  発明者: 長尾昌善, 吉田知也, 大崎 壽, 神田信子, 中野武雄
  特許権者: 国立研究開発法人産業技術総合研究所 学校法人成蹊学園