なかのにっき

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2008年04月16日(水) [n年日記]

#1 今日の徹底トレーニング英会話

be in danger of 〜する危険にある、危険がある
turn down 低くする、弱くする
pick on 〜をいじめる

#2 今日の入門ビジネス英語

leverage 〜を有効利用する
clear 〜 with ... ...のことで〜の許可を受ける

#3 行き

原付。ATM 経由。

#4 [labo] openvpn

ブリッジにしちゃうのが楽かなあ。 とは言え大改造は人がいる時間帯にはしにくいな。

surf との接続を bridge にしてみた。 やはり /home を vpn 越しに mount/umount するタイミングがめんどいが、 とりあえずなんとか繋がったらしい。

OpenWrt の LAN をブリッジするには、 /etc/config/network の lan の option ipaddr と option netmask をコメントアウトしておき、 このへん を参照して
root@OpenWrt:~# ifconfig eth0.0 0.0.0.0 promisc up
root@OpenWrt:~# ifconfig wl0 0.0.0.0 promisc up
root@OpenWrt:~# openvpn --mktun --dev tap0
root@OpenWrt:~# ifconfig tap0 0.0.0.0 promisc up
root@OpenWrt:~# brctl addif br-lan tap0
root@OpenWrt:~# ifconfig br-lan 192.168.111.64 netmask 255.255.255.0 broadcast 192.168.111.255
root@OpenWrt:~# cd /etc/openvpn/
root@OpenWrt:/etc/openvpn# openvpn --daemon --config client.conf
でいけたみたいだけど、自動化はどうすんだろな。 あと bridge できた以上 dnsmasq は不要になるかと思うが、 それはテストしてみんと。

#5 [paper] Google Reader で拾った論文

半月溜めた。いかんな。
しかも 9 日経ってからやっと補完しているという…

RSI: Metal bead crystals for easy heating by direct current:

貴金属線の端を加熱溶融して先端を 2.5mm 径の結晶玉にし、 それにワイヤをボンディングして効率良く加熱しましょう、という話。 STM での観察例。

JAP: Optical properties of rocksalt and zinc blende AlN phases: First-principles calculations:

Wurutzite の他、rocksalt, zinc blende な AlN が高圧下におかれたときの 第一原理バンド計算→光学関数の導出。 まあ AlN の常温常圧でのパラメータを拾う手掛かりとして一応。

JAP: Differential sputter yields in Si_1-xGe_x:

Illinois 大のグループ。Stillinger-Weber ポテンシャルを使った MD で、 1keV Ar+ に対する preferential sputtering を扱っている。 ただ x 依存性は暴れてて、正直どうかな、という気がしないでもない。

JPD: Characteristics of hydrogen co-doped ZnO : Al thin films:

KIST のグループ。AZO のスパッタ製膜時に H2 を混ぜるとどうか、という話。 SIMS で濃度見て、XRD、電気特性。ちょっと抵抗低め、だけど吸収は少なめとのこと。 でもまあこれも微妙。

JPD: Origins of ion energy distribution function (IEDF) in high power impulse magnetron sputtering (HIPIMS) plasma discharge:

UK/チェコのグループ。Cr, Ti, C の HIPIMS でエネルギー分解質量分析をした実験。 低圧定電流で Thompson + Maxwellian→電流増やすと bi-Maxwellian。 低温成分はアフターグローからのイオン、 高温成分はターゲットの高速粒子で加熱されたもの、と言ってるが、 ちょっと難しいところ。時分割測定ができるといいかな。

APL: Single impact crater functions for ion bombardment of silicon:

これも Illinois 大、 上記と同じグループ。 Si に 500eV の Ar+ 一個がぶつかったときのクレーター発生を MD で。 入射角依存性など。形状は sputtering そのものより mass rearrangement で起こると。 ripple 形成あたりの素過程を、つーことでやってるみたい。

JAP: Effect of N2, Ar, and O2 plasma treatments on surface properties of metals:

POSTECH のグループ。各種金属膜 20nm を eB で着け、 100mTorr の N2, Ar, O2 各 RF プラズマに晒し、 放射光 PES で化学状態・仕事関数を見た話。C の減少とか O-rich surface による仕事関数の低下とか RMS や contact angle も減るよとか。

PRB: Pathways of bond topology transitions at the interface of silicon nanocrystals and amorphous silica matrix:

SiO2 に embed された NC-Si 界面での bond rearrangement に関する MD 計算。 コアの内側・界面近くにおける stress の具合とか、O の結合状態の種類とか。

PRB: Ion bombardment induced smoothing of amorphous metallic surfaces: Experiments versus computer simulations:

アモルファス金属 (ここでは Zr/Al/Cu の合金) を keV オーダーの重いイオン (ここでは 3keV の Kr+) で叩くと surface smoothing が起きるということで、 実験とシミュレーションを比較した結果。塑性流動・ballistic smoothing (laterral sputtering みたいなものかな) が効いてるんでは、とのことで。

JPD: Surface phase transition of Cu/Si(1 1 1)-(5 × 5) by scanning tunnelling microscopy and photoemission study:

シンガポールのグループ。RT/annealed Cu/Si(111) の STM と放射光 PES。 Si 2p の chemical shift 各成分から Si-Cu bonding がアニールした場合には Cu coverage と共に顕著に増加している様子が見えていたり。

JPD: Determination of characteristic constants for some basic processes in plasma―diffusion, Penning ionization, asymmetric charge transfer:

He や Ne 中での各種金属原子の拡散係数を計算・実測した話。

JAP: Molecular dynamics study on low-energy sputtering properties of MgO surfaces:

Korea のグループ。MgO の He/Ne/Xe によるスパッタ率の MD 計算。 まあなんつーかあたり前の conclusion で、実測との一致もそれほど。 難しいのであろうことはわかるが。

APL: Velocity distribution of neutral species during magnetron sputtering by Fabry--Perot interferometry:

HCL をリファレンスにして速度を求めた話。 ただ line-of-sight に沿っての積分になるだろうから、いまいちピンとこない。 名大の佐々木先生のとこの LIF の結果の方が clear だと思うけど (intro では tunability が、と言ってるが)。

APL: Gamma-ray waveguides:

Au-Pd スパッタ膜とスピンコートしたポリマーで積層構造をつくると、 122keV のγ線に対して critical angle が 0.031 deg くらいの channel ができるのだそうで。すげーな。

PRB: Measurement and density functional calculations of optical constants of Ag and Au from infrared to vacuum ultraviolet wavelengths:

金銀表面の誘電関数の IR〜VUV レンジの誘電関数決定。 実験は Xe スパッタクリーニングした表面を REELS、 計算は DFT。両者比較的良く一致したとのこと。

#6 [labo] uhvsp

昨日つけたやつの XPS 測定。O はスペクトル見てわかるくらいだけど、少ない。 もう一回着けるか。

試料を入れるところで失敗、チャンバーオープンする羽目に orz
導入棒が入りすぎたときはだいたい嵌まるな。何が起きてるんだ。

鶏か卵か、昇降ステージの動作が渋くなってたのでペンチで微調整。 19:10 に排気開始、20:20 からリークチェックして 20:40 から bake。

#7 [dept] 安全講習会

4 限だけど 20 分押した。 ちと測定の途中だったので、学生さんには先に参加してもらって自分は遅刻。

#8 [labo] Windows PC

電源を入れた直後に速やかに落ちるように。なんだ今日のツキのなさは。
ヨドバシに原付で出かけ、晩飯がてら Intel の 965P マザーを購入。

入れ替え。チップセットが同じのを選んだおかげもあると思うが、 奇跡的にノートラブルで立ち上がった。はうはう。

#9 めし

朝は薩摩揚げと鰯の缶詰と昆布豆、昼はお握り 2 ケにサラダ、 晩は大戸屋で牡蠣ご飯、間食はクッキー 2 枚にドーナツ 1 ケ。
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中野武雄 (NAKANO, Takeo) <nakano@st.seikei.ac.jp> Since 1999-10-07
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