なかのにっき

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2005年02月15日(火) [n年日記]

#1 行き

原付

#2 [issp] プログラム改訂

昨日コメントされた修正点の反映、その他申込原簿と照合していくつか追加・修正。 Word の版で作業前・作業後の snap は撮ったのだが、diff って見られるのかしら?

#3 [paper] Phys. Rev. Focus 11 Nov 2005

Watching Atoms Move:

Researchers usually compare "before" and "after" pictures of typical regions of a material to see how it changes during a phase transition. But now a team has watched a specific set of atoms continuously during a surface phase transition to see exactly how it occurs, and has made atomic-scale movies. In the 4 February PRL they describe their ultrastable scanning-tunneling microscope, or STM, that can remain fixed on the same set of surface atoms, even as the temperature rises by 100 Kelvin--a huge warming that would cause other microscopes to "lose their place." By studying one especially pristine region of the surface, the researchers were able to learn how the transition occurs, atom-by-atom, in a perfectly clean system.
おお、すげー。

#4 [labo] バキュームプロダクツ

電話。明日装置搬入ということに。

#5 プレセミナー

明日 13:00 くらいから馬場研でやります。 聞きたい人は適当に集まってください。 ただし途中で装置の搬入が入るのでその間は中断ということで。

#6 [paper] 今日拾った論文 (JVSTA 23(1), JVSTB 23(1), +3)

Ionization of sputtered metals in high power pulsed magnetron sputtering:

パルス DC の OES。emission のモデルを計算してるが、 使ってる Te が 0.6 eV というのは (少なくとも平衡状態で 励起があるためには) 低すぎるような? 実験結果とは合っているようなんだけど、うーん。

Collisional ion dynamics in capacitively coupled rf discharges:

とりあえずメモ。

Dynamic control of substrate bias for highly c-axis textured thin ferromagnetic CoCrTa film in inductively coupled plasma-assisted sputtering:

沖村先生の。coil assist の RF スパッタで、形成初期に高バイアス (-100V)、 その後を -50V とすることで、c 軸が立ち、表面も smooth な結晶膜ができた、 とのこと。

Influence of processing variables on the properties of dc magnetron sputtered NiAl coatings containing Hf additions:

Pg=0.67 Pa〜4 Pa、Ts=RT〜400℃、400W で 3nm/s。速いなおい。 この条件的には Thornton の Zone 1〜T らしいが、 どうも SEM で見たとこだと 2 らしいね、ということらしい。 言い訳として ref 41-43 が引っぱってあるけど、特に考察にまでは至っていない。

Pulsed dc operation of a Penning-type opposed target magnetron:

対向ターゲットの pulse スパッタ。Ar->Cu。OES、時分割マススペ。 うーん、これもそうなんだが、pulse スパッタの議論って良くわからんのが多いな。 OES で Cu+ が見えてないし、decay time の話がないし… Dickson の ref 12, 13 あたりは読んでおく方がいいか。

Effect of nitrogen pressure on the hardness and chemical states of TiAlCrN coatings:

うーん。やっぱりかなりの oxygen が入っているということらしいけど。 いいのかねこれでも。

Suppression of nanoscopic shadowing during physical vapor deposition by biased diffusion:

MD による Cu depo の simulation 5eV を越えると biased diffusion が強くなり、shadowing の効果が低減されるとのこと。 Introduction がなかなかまとまっていて良い。

Effects of arrival rate and gas pressure on the chemical bonding and composition in titanium nitride films prepared on Si(100) substrates by ion beam and vapor deposition:

これも O だらけなわけだが。 まあ BP 1.3×10^-4 Pa ってのは Ti の蒸着としてはどう考えても高いよな。

Quenching of electron temperature and electron density in ionized physical vapor deposition:

つうわけで Moiseev さんのの ref12。

Axially-resolved study of highly ionized physical vapor deposition:

続いて ref13 ふむ。

Deposition of silica-silver nanocomposites by magnetron cosputtering:

シリカの と Ag の RF 同時スパッタ。どうも TEM 像が暗くて良くみえないが、 ガスに酸素を混ぜるとより丸い nano cluster ができるとか、 cluster が列状に並んでいて、これは matrix の void に沿っているんじゃないかとか。 可視光領域の absorption 測定と、実効誘電率による評価も。

Erosion profile optimization in sputtering systems: Singular value decomposition approach:

スライド作ってるときに survey して見つけたもの。JVST B 19(2001)。
なんだ cos rule の積分してるだけか。

#7 るびま 5 号

増井さんの Interview を読んで思わず うさぎ本 を注文してしまった。これで使うようになれる…といいけどなあ。高かったし(涙)。

ちなみに:

こちら も同時注文。
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中野武雄 (NAKANO, Takeo) <nakano@st.seikei.ac.jp> Since 1999-10-07
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