なかのにっき

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2008年03月05日(水) [n年日記]

#1 行き

原付。家から電話して相原ネジで M3 のナベを get。

#2 [labo] 新スパッタ

14:30 からベーク。 16:30 まで。 17:00 から水冷。O のラインの減圧弁は full close にならない (前も書いた気がするが)。
18:30 に点火。MV full close の 5.75 Pa→3 Pa→full open の 0.61 Pa で 30 分ずつ飛ばしてみた。21:00 に停止。

#3 [labo] ネジ洗い

洗う方を分ける方が結局楽だということにいまさら気付く。
2×2 回でオーブンへ。

#4 [paper] 今日拾った論文 (APEX 1(1-2))

今後はこれも RSS で読む。

High Mobility Titanium-Doped In2O3 Thin Films Prepared by Sputtering/Post-Annealing Technique:

青学の中田先生のところ。Ti ドープの酸化スズが真空中ポストアニール (@530度) で高易動度 (〜100 cm^2/Vs)・低抵抗 (2E-4) 化するというもの (製膜時の基板温度も高いけど)。 キャリヤが少ないので、赤外での透過もかなり良い。

Molecular Layer-by-Layer Growth of C60 Thin Films by Continuous-Wave Infrared Laser Deposition:

東工大の松本先生たちのグループ。蒸発源を IR レーザの連続照射 (980nm, 6〜9 W/cm^2) にすると、L by L 成長を示唆する RHEED 振動が見られる、 というもの (XTD でも単結晶っぽい回折)。

#5 ヨドバシでポイントを使い切るための考察

年度内に校費で買ったポイントを使い切った方が気分が良くなる気がしてきたので、 ちょっと計算してみる試み。 とすると
(B - Pu) * r/100 = Pu - Pc
にすればいいから、
Pu = r/(100+r) * B + 100/(100+r) Pc
か。

#6 ICCG7 registration

した。一応 15-19 の宿泊にしてみた。EUR 100 / night は高いけど、 会場だし近隣のホテルからの足も無いようなので。 レンタカー借りて頑張るのは本末転倒だしなあ。
confirmation mail は +misc/5023。

#7 日経 MICRODEVICES 3 月号

FPD 用 Cu 層の密着力向上に、 易酸化金属をまぜ、酸化雰囲気で製膜する話が載っていた。 アルバック。

この雑誌、申し込んでないのに昨年から送ってきていただいているのだが、 どちらのご厚意か良く理解していない(^_^;。すみません。 結構購読料高い雑誌だけど。

#8 [paper] 今日拾った論文 (PRL 99(10-11), APL 91(10-11), JAP 102(5))

Surfactant-Mediated Growth Revisited:

Ni on Cu 系の surfactant に O が利用される系の X 線構造解析。 表面に O が浮かぶというよりは、成長中の表面近傍に interstitial として入っているとのこと。 また O 中で製膜した Ni 膜と、post oxidation した膜の応力を比較した結果でも、 これまで O 表面層によるものと言われていた膜の応力変化は説明できない、 とのこと。

Influence of random roughness on the adhesion between metal surfaces due to capillary condensation:

大気中で荒さを 〜10nm まで変えた Au 膜と、 AFM tip 先端に Au コートした 100um ポリスチレン球との間で pull off force を測ったもの。 平坦な膜だとメニスカスフォースが顕著に強く、粗くなるにつれて急激に (RMS 2→10 nm で 2 桁ほど) 落ちる結果。

Size dependence of Si 2p core-level shift at Si nanocrystal/SiO2 interfaces:

SiO2/Si 上に反応性イオンビームスパッタで SiOx をつけ、 窒素中で 1100度 20min アニールで作った nano-Si の HRSEM-SR-XPS。 NC のサイズは x=1.0→1.6 で 3.79→2.12 nm、PL ピーク移動とともに、 Si0 からの 2p が shift するよ、という結果。 やっぱり窒素雰囲気重要ということか。

Influence of elastic scattering of photoelectrons on angle-resolved x-ray photoelectron spectroscopy:

京大のグループ。HfO2/SiOn/Si の角度分解 XPS を、NIST の脱出深さ DB で解釈、 高分解能 RBS と比べて (80 度まで) 良く一致した、という報告。

High performance thin film transistors with cosputtered amorphous indium gallium zinc oxide channel:

韓国のグループのガラス上 TFT。 ゲートは MoW、絶縁膜は SiNx、IGZO は 5 mTorr, Ar/O2=65/35 で In2Ga2ZnO7 と In2O3-10wt%ZnO とから RT で同時スパッタ、 ソース・ドレインは IZO。易動度は 20 cm^2/Vs、cut off の急峻度は 0.35V/decade。

On the physics of moisture-induced cracking in metal-glass (copper-silica) interfaces:

溶融石英に Cu を貼ったサンプルを 2 つ用意、片方に Cr 層を乗せて貼り合わせて 470℃ 22MPa 2h 真空中で焼いて bond、んで基板を両側から引っぱって、 force と割れの進行速度との曲線をいろいろな雰囲気で測定した話。 threshold から 3 つの region があって、それぞれ応力による化学反応が効く、 反応種の transport が効く、応力緩和が効く、ということらしい。ふーん。

Oxidation of silicon: Further tests for the interfacial silicon emission model:

酸素分圧に対する酸化速度を説明するのに標題のモデルがあるそうだが、 これが大気圧以下の圧力だと、定量的には現象を説明できなかった、つうことらしい。

#9 帰り

原付。また寒くなった。

#10 めし

朝はひじき煮と野菜薩摩と赤貝の缶詰。 昼はいなげやの助六(小)、西久保コロッケ、おから。 間食は薄皮饅頭。晩はキムチ鍋+うどん。

#11 [labo] RG-59/u の N 型プラグ

自分では見付けられなかったので高城さんに泣きついてみたら、 東洋コネクタのリスト にちゃんとあった (NP-62/U)。どこを見ていたんだ… ちうかこのページ画像なので検索できなかったからかな。

#12 今日の英会話上級

blurt out 口走る
shuffle ぎごちなく振舞う
baffle まごつかせる、困惑させる
drift 流出
sap (体力などを) 奪う、失わせる、奪い取る
lifeblood 活力源、生き血
reinvigorate 再活性化する

ethical 倫理の、倫理的な
euphemistic 婉曲的な
sarcastic(ally) 皮肉な(に)

long and steady 長いことじっと
appreciative 感謝している / 鑑識眼のある
sign on to (a team) 〜と契約する
compliment (vt) 褒める、〜にお世辞を言う [n だと賛辞、愛想、挨拶など]
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以上、1 日分です。
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中野武雄 (NAKANO, Takeo) <nakano@st.seikei.ac.jp> Since 1999-10-07
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